Líder global em litografia anuncia avanço que pode elevar produção global de chips em até 50% até 2030

A ASML Holding, empresa holandesa considerada líder mundial na fabricação de sistemas de litografia para a indústria de semicondutores, anunciou um avanço na fonte de luz de suas máquinas de litografia ultravioleta extrema que pode permitir a produção de até 50% mais chips até 2030.

A tecnologia EUV é fundamental para a fabricação de chips avançados utilizados por empresas como a TSMC e a Intel. O principal avanço foi o aumento da potência da fonte de luz de 600 watts para 1.000 watts, mantendo as mesmas condições exigidas por clientes industriais.

Com maior potência, o tempo de exposição do wafer à luz durante o processo de “impressão” dos circuitos é reduzido, o que amplia a produtividade por hora e diminui o custo por unidade produzida. A expectativa é que cada máquina alcance a capacidade de processar cerca de 330 wafers de silício por hora até o fim da década, ante 220 wafers atualmente.

Cada wafer pode conter de dezenas a milhares de chips, dependendo do tamanho e da complexidade dos circuitos fabricados.